直流磁控溅射法制备TiO2自清洁薄膜
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- 直流磁控溅射法制备TiO2自清洁薄膜目录
摘 要 I
Abstract II
1.1前言 2
1.2 二氧化钛的初步认识 2
1.2.1 二氧化钛薄膜的晶体结构及性质 2
1.2.2二氧化钛光催化原理 4
1.2.3二氧化钛薄膜的应用 5
1.3二氧化钛的制备与表征 6
1.3.1二氧化钛的制备方法 6
1.3.2二氧化钛薄膜的表征 8
1.4本文研究的主要内容 11
2 主要实验设备及材料制备 12
2.1实验设备 12
2.2二氧化钛薄膜的制备 14
2.2.1基片清洗 14
2.2.2磁控溅射过程 14
3.1不同溅射功率的影响 16
3.1.1实验数据 16
3.1.2结果与讨论 16
3.2不同溅射时间的影响 18
3.2.1实验数据 18
3.2.2结果与讨论 18
3.3不同溅射压强的影响 20
3.3.1实验数据 20
3.3.2结果与讨论 20
3.4 不同O2/Ar流量比的影响 22
3.4.1实验数据 22
3.4.2结果与讨论 22
3.5 不同离线退火温度的影响 24
3.5.1实验数据 24
3.5.2结果与讨论 25
3.6小结 26
4 二氧化钛薄膜光催化性能研究 28
4.1薄膜亲水性能研究 28
4.2 薄膜光催化降解有机物性能 29
4.2.1实验操作步骤 29
4.2.2实验结果与讨论 29
5 结论与展望 32
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